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华为准备自研光刻机了?真相究竟如何

2020-07-27 14:16   来源: 互联网

        最近,所有主要媒体都透露,华为正在招募大规模的光刻人才。据传,上海微电子的光刻人才在接到电话后就离开了,甚至影响了国家重点项目的推广。

        

        最近,全球芯片行业正在飙升,NVIDIA计划收购ARM,英特尔的7nm技术预计不会导致股价暴跌。

        

        这是一个经济全球化的时代,人与人之间,企业与企业之间,国家之间,是密不可分的。

        

        当你向华为挥动刀子时,高通(Qualcomm)很可能首当其冲。

        

        那么,回到华为的问题上,华为能做光刻吗?

        

        实事求是地说,如果多年没有积累,那是很困难的。

        

        有些人问,哪一个比氢弹更难?更专业的受访者回答说,要赶上至少需要50年的时间。

        

        编辑认为,如果你多看一看历史,就很容易被撞到脸上。你知道,50年前,清华大学的光刻机是国际领先的。

        

        摄影:1972年武汉无线电元器件厂制作的光刻掩模,32张,共66页。

        

        20世纪70年代,中国科学院开始发展计算机辅助光刻掩模技术。清华大学开发了第四代分阶段投影光刻机,并于1980年获得成功。光刻精度达到3微米,仅次于美国,遥遥领先于韩国和台湾。

        

        你为什么以后不做得更好呢?

        

        市场

        

        半导体行业需要大量的资金来驱动,仅仅依靠金融资金是无法维持的,只有强大的市场才能解决资金来源。当时,我们没有庞大的个人电脑用户,也没有很多可以使用服务器的业务。

        

        时代不同了,我们对芯片的需求是世界上最大的。

        

        手机的普及,5G的普及,催生了世界上最大的芯片需求市场。

        

        有市场,就有人才,有钱。

        

        少了什么?

        

        天才

        

        有人问,中国光刻机要多久才能赶上?

        

        事实上,这位官员已经给出了这个问题的答案。

        

        1.时间点,2025年"。

        

        资料来源:2015年5月国务院发布的"2025年中国制造"。

        

        2.关键技术突破,02专项工程

        

        02工程",即"超大规模集成电路制造技术和成套工艺"项目,由于国家重大项目列入第二大项目的顺序,在行业中称为"02专项"。

        

        3.该项目已被接受。

        

        EUV极紫外光源(中国科学院长春光学研究所)、EUV光刻胶(由中国科学院化学研究所、北京科化微电子材料有限公司物理化学技术研究所联合承担)、高钠浸没式光学系统(长春精密光学)、光刻机双工件系统(清华大学、华佐百科)、面积硅片产业化技术(中央)。

        

        你可以说他们是在骗取资金,因为这个计划还比较早,所以提到的只有14纳米,但我们都知道EUV能做什么,无论如何,我不太清楚。

        

        在科技创新委员会的首次公开募股中,我们还看到了光刻机的另一个核心部件--光学透镜,这是几家公司正在开发的。

        

        换句话说,光刻的核心工艺实际上已经被征服了,剩下的就是商业化的大规模生产。

        

        目前从事整合工作的是上海微电子公司,预计2020年至2021年将交付22 nm光刻机。

        

        华为招聘光刻人才有两种可能性:第一,类似于派驻台积电的同事,双方在芯片生产方面进行充分沟通,以确保最佳成本和技术;第二,英特尔的战略:我自己来做。

        

        有多难?

        

        有困难,从02年的特殊验收结果来看,核心技术其实已经突破了,剩下的是人和钱的问题。

        

        我们拭目以待

责任编辑:fafa
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